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半导体含氟废水处理案例|半导体含氟废水处理方法

新项目题材 该半导体行业研制工业品牌在豫东的地区,通常产出集成式用电线路集成块,日排放标准物含氟焦化废工业污水处理方法约800吨。因本地人安全标准单位升高,已有整理设施设备無法无法氟化物排放标准物氨水浓度最低5mg/L的新让,工业品牌股权投资14000万元再建专门含氟焦化废工业污水处理方法整理系统的。 焦化废水基本成分及从何而来 工业废水主要的来源地于电子器件生产制造全过程中的刻蚀步骤和除污步骤,主要的造成的排放物以及: 氟亚铁离子溶度:300-800mg/L pH值:2- 含带一点硅酸盐、聚磷酸盐 微量分析天价属如铜、镍等 工作技艺过程 选取"预治疗+生物学积淀+角度治疗"搭档技艺: 调接池:多样化水污染的水量,设立pH在线播放监控 4级作用池:加药系统氢防氧化钙,掌控pH至7-8,导致氟化钙凝固 二级积淀池:积淀剥离 氟化钙废水 三级反响池:加药系统氯化钙和缔合氯化铝,进步出掉残存氟亚铁离子 两级沉定池:三次沉定分离法 砂滤软件系统:取除浮悬物 可溶性炭吸附性:剔除生产物和少量巨资属 废水清理整体:板框压滤烘干,废水含水分率减少为60%如下 最后郊果 机系统启动固定后,出水出水水质检测: 氟阴离子渗透压:2.1-3.8mg/L pH值:6.5-7. SS<5mg/L 巨资属含氧量均如果低于检测限 已经需要满足《光电子实业水环境污物摆放要要》(GB39731-2020)要,年年增多氟化物摆放要约180吨。

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