某光电器件存储芯片生产制作生产厂家在晶圆生产制作步骤中，用到硅烷开始硅外延性发展，空气干洗塔会产生高溶液浓度含硅生产废水补救方式 。生产废水补救方式 兼有pH下降大（2-11）、硅含量的高的优点，过去的补救方式 易发生硅垢堵住方面。 废污水营养成分及由来 废水处理工艺关键组成成分为： 溶于性硅酸盐 ：SiO₂密度达1000-1500mg/L 盐酸/氢氧化物钠 ：清洗塔酸性清洗液存留 颗粒状硅 ：納米级SiO₂橡胶胶体部分 痕量砷 ：主料不溶物带去 治疗工艺技术标准流程 创新发展应用"两极与+膜过滤清洁+汽化结晶体"新工艺： 一个与 ：用CaO上下调整pH至4-5，产生硅酸钙奠定，硅的还原率60%。 2级中合 ：加Na₂CO₃将pH提高了至9，进两步积累剩于硅，并接用镁剂除砷。 反渗透装置机系统 ：0.02μm瓷质膜滤水纳米级级硅粉末，通量安全在80LMH。 MVR蒸发掉器 ：浓缩提炼高盐电镀废水，成果出Na₂SO₄副产物的，水循环率超90%。 终结的效果 总硅从1500mg/L调至5mg/L低于 砷分子量从0.8mg/L高于0.01mg/L 设备无积垢使用不低于2年 第年的回收利用氢氧化钠钠结晶约800吨